加长矩形硅靶材

硅靶材

硅靶材是一种重要的磁控溅射镀膜靶源，随着磁控溅射镀膜技术快速发展，硅靶材的需求日益增加，市场前景非常广阔。我公司硅靶材有尺寸规格齐全的平面靶材、圆形/圆环靶材、管状旋转靶材、球型靶材、异形靶材等各种产品，产品形位公差精度高，电阻率控制区间窄，**限度地保障了用户同一工况下的产品品质一致性。该技术源自2017-2021公司承担的宁夏重点研发计划东西部合作项目“适用于磁控电子溅射的硅基靶材制备工艺技术的研究”，并在此基础上不断创新开发，产品向高纯度、高密度、大尺寸、晶粒晶向精准控制趋势发展。

产品外观精度达到：尺寸公差土0.1mm、形位公差<0.1mm，粗度优于Ra3.2，表面色泽均匀、无针孔、无裂纹、无崩边、无任何污染。

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